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 A photopolymer is a photosensitive, optically functional polymer material or resin whose properties, such as solubility, are altered by light irradiation. Photopolymers are widely used as photoresist materials during etching in the manufacture of printed circuits and semiconductor integrated circuits. In positive-type photoresist, photoacid generators (PAG) change the solubility of the photopolymer, whereas negative-type photoresist requires photopolymerization initiators for polymerization and curing. This section includes the monomers required to generate photopolymers.
 Please also check Photopolymerization initiators.

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产品编码 M3228
CAS RN 178889-45-7
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M3223
CAS RN 249562-06-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M2261
CAS RN 177080-66-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M2260
CAS RN 177080-67-0
纯度/分析方法 >97.0%(GC)

产品编码 A1551
CAS RN 2628-16-2
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 O0535
CAS RN 195000-66-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 O0538
CAS RN 130224-95-2
纯度/分析方法 >97.0%(GC)

产品编码 M3261
CAS RN 178889-49-1
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 A2859
CAS RN 216581-76-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 H1689
CAS RN 115372-36-6
纯度/分析方法 >99.0%(GC)

产品编码 B4269
CAS RN 47758-37-2
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 A1389
CAS RN 1663-39-4
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码:   M3228 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M3223 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M2261 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M2260 | 纯度/分析方法   >97.0%(GC)

产品编码:   A1551 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   O0535 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   O0538 | 纯度/分析方法   >97.0%(GC)

产品编码:   M3261 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   A2859 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   B4269 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   A1389 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

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