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 A photopolymer is a photosensitive, optically functional polymer material or resin whose properties, such as solubility, are altered by light irradiation. Photopolymers are widely used as photoresist materials during etching in the manufacture of printed circuits and semiconductor integrated circuits. In positive-type photoresist, photoacid generators (PAG) change the solubility of the photopolymer, whereas negative-type photoresist requires photopolymerization initiators for polymerization and curing. This section includes the monomers required to generate photopolymers.
 Please also check Photopolymerization initiators.

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产品编码 O0535
CAS RN 195000-66-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 I0617
CAS RN 7534-94-3
纯度/分析方法 >85.0%(GC)

产品编码 I0962
CAS RN 297156-50-4
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 O0536
CAS RN 254900-07-7
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M1526
CAS RN 16887-36-8
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M3228
CAS RN 178889-45-7
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 A1735
CAS RN 121601-93-2
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M3261
CAS RN 178889-49-1
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 D3381
CAS RN 34759-34-7
纯度/分析方法 >95.0%(GC)

产品编码 M2261
CAS RN 177080-66-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M0326
CAS RN 585-07-9
纯度/分析方法 >98.0%(GC)

产品编码 M2260
CAS RN 177080-67-0
纯度/分析方法 >97.0%(GC)

产品编码:   O0535 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   I0617 | 纯度/分析方法   >85.0%(GC)

产品编码:   I0962 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M1526 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M3228 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   A1735 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M3261 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   D3381 | 纯度/分析方法   >95.0%(GC)

产品编码:   M2261 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M0326 | 纯度/分析方法   >98.0%(GC)

产品编码:   M2260 | 纯度/分析方法   >97.0%(GC)

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