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Photopolymer Reagents

 A photopolymer is a photosensitive, optically functional polymer material or resin whose properties, such as solubility, are altered by light irradiation. Photopolymers are widely used as photoresist materials during etching in the manufacture of printed circuits and semiconductor integrated circuits. In positive-type photoresist, photoacid generators (PAG) change the solubility of the photopolymer, whereas negative-type photoresist requires photopolymerization initiators for polymerization and curing. This section includes the monomers required to generate photopolymers.
 Please also check Photopolymerization initiators.

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產品號碼 M3228
CAS RN 178889-45-7
純度/分析方法 >98.0%(GC)

產品號碼 I0617
CAS RN 7534-94-3
純度/分析方法 >85.0%(GC)

產品號碼 M1526
CAS RN 16887-36-8
純度/分析方法 >98.0%(GC)

產品號碼 A2859
CAS RN 216581-76-9
純度/分析方法 >98.0%(GC)

產品號碼 O0535
CAS RN 195000-66-9
純度/分析方法 >98.0%(GC)

產品號碼 I0962
CAS RN 297156-50-4
純度/分析方法 >98.0%(GC)

產品號碼 B2108
CAS RN 2930-05-4
純度/分析方法 >97.0%(GC)

產品號碼 M2260
CAS RN 177080-67-0
純度/分析方法 >97.0%(GC)

產品號碼 D3381
CAS RN 34759-34-7
純度/分析方法 >95.0%(GC)

產品號碼 O0538
CAS RN 130224-95-2
純度/分析方法 >97.0%(GC)

產品號碼 B1796
CAS RN 1675-54-3
純度/分析方法 >85.0%(GC)

產品號碼 A1735
CAS RN 121601-93-2
純度/分析方法 >98.0%(GC)

產品號碼:   M3228 | 純度/分析方法   >98.0%(GC)

產品號碼:   I0617 | 純度/分析方法   >85.0%(GC)

產品號碼:   M1526 | 純度/分析方法   >98.0%(GC)

產品號碼:   A2859 | 純度/分析方法   >98.0%(GC)

產品號碼:   O0535 | 純度/分析方法   >98.0%(GC)

產品號碼:   I0962 | 純度/分析方法   >98.0%(GC)

產品號碼:   B2108 | 純度/分析方法   >97.0%(GC)

產品號碼:   M2260 | 純度/分析方法   >97.0%(GC)

產品號碼:   D3381 | 純度/分析方法   >95.0%(GC)

產品號碼:   O0538 | 純度/分析方法   >97.0%(GC)

產品號碼:   B1796 | 純度/分析方法   >85.0%(GC)

產品號碼:   A1735 | 純度/分析方法   >98.0%(GC)

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