光酸・ラジカル発生剤 / Photo-Acid・Radical Generator

　アクリル基含有アルコキシシランを原料とするハイブリッド皮膜は、有機成分と無機成分が分子レベルで分散している新しい機能材料として注目されています。このハイブリッド皮膜は、アクリル基の重合反応とアルコキシシリル基の加水分解・縮合反応により逐次的に合成する方法が一般的です。しかし1を用いると、光照射により発生したスルホン酸と炭素ラジカルが、アルコキシシリル基の加水分解･縮合反応とアクリル基の重合反応を同時に進行させ、三次元架橋した皮膜を形成します¹⁾。さらに1は 、ペンタエリスリトールトリアクリレートとテトラエトキシシランを原料とするアクリル／シリカハイブリッド皮膜の生成にも光酸・ラジカル発生剤として作用します²⁾。