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CAS RN: 119752-83-9 | 製品コード: B3960

Bis(sulfur Dioxide)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane Adduct

Chemical Structure of Bis(sulfur Dioxide)-1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane Adduct

純度(試験方法): >94.0%(T)
別名:
  • ビス(二酸化硫黄)-1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン付加物
  • DABCO-ビス(二酸化硫黄)
  • DABCO-Bis(sulfur Dioxide)
  • DABSO
製品書類:
1G
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29   埼玉県倉庫より即日*発送可能です ご注文後2週間程度で発送可能です
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・弊社では常に保管条件を最適化するための見直しを行っています。最新の製品保管条件はホームページ上に記載されたものとなりますので、ご了承ください。


製品コード B3960
純度(試験方法) >94.0%(T)
分子式・分子量 C__6H__1__2N__2O__4S__2 = 240.29 
物理的状態(20℃) 固体
保管温度 冷蔵 (0-10°C)
不活性ガス充填 不活性ガス充填
避けるべき条件 空気,熱
容器 1G-インナービン (ガラスビン,プラスチックチューブ) (画像を見る)
CAS RN 119752-83-9
Reaxys Registry Number 21034099
PubChem Substance ID 354335121
規格表
外観 白色~ほとんど白色粉末~結晶
純度(よう素逆滴法) 94.0 %以上
物性値(参考値)
融点 180 °C(dec.)
水への溶解性 可溶
GHS
絵表示 Pictogram
注意喚起語 警告
危険有害性情報 H315 : 皮膚刺激。
H319 : 強い眼刺激。
注意書き P264 : 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P280 : 保護手袋/保護眼鏡/保護面を着用すること。
P302 + P352 : 皮膚に付着した場合:多量の水で洗うこと。
P337 + P313 : 眼の刺激が続く場合:医師の診断/手当てを受けること。
P305 + P351 + P338 : 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外すこと。その後も洗浄を続けること。
P362 + P364 : 汚染された衣類を脱ぎ,再使用する場合には洗濯をすること。
P332 + P313 : 皮膚刺激が生じた場合:医師の診断/手当てを受けること。
法規情報
輸送情報
利用例
TCI反応実例:ニッケル触媒による芳香族ボロン酸とDABSOを用いたるワンポットスルホン合成

ニッケル触媒による芳香族ボロン酸とDABSOを用いたるワンポットスルホン合成

使用した化学品

実施手順

窒素気流下,4-ビフェニルボロン酸 (792 mg, 4.00 mmol),DABSO (577 mg, 2.40 mmol),tmphen (95 mg, 0.40 mmol),リチウムtert-ブトキシド (320 mg, 4.00 mmol),NiBr2(glyme) (123 mg, 0.40 mmol)に脱水したDMI (20 mL)を加え100 °Cで 14時間撹拌後,室温に放冷した。これにブロモ酢酸 tert-ブチル (1.17 mL, 8.00 mmol)を加え,室温にて1時間撹拌した。反応混合物に水 (20 mL)を加え,ジエチルエーテル (50 mL) で3回抽出した。合わせた有機層を水 (50 mL),飽和食塩水(40 mL)で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後,減圧濃縮した。粗成生物を中圧分取クロマトグラフィー (シリカゲル,酢酸エチル:ヘキサン = 5:95 - 15:85)で精製すると,化合物1 (1.01 g,収率76%)が白色固体として得られた。

実施者コメント

NiBr2(glyme)とLiOtBuはグローブボックス中でサンプル管に秤量した。いずれの試薬も吸湿分解するため,グローブボックス中での秤量,保管が望ましい。空気中で秤量する場合は素早く行い,試薬は開封後出来るだけ速やかに使い切ることが望まれる。
NiBr2(glyme)は減圧下,配位子が脱離する恐れがあるので,長時間の減圧操作も避けるべきである。
反応溶液はTLC (ヘキサン : 酢酸エチル = 4 : 1, Rf = 0.57)とUPLC-MSでモニタリングした。

分析データ

化合物 1

1H NMR (400 MHz, CDCl3); δ 8.00 (d, 2H, J = 8.9 Hz), 7.78 (m, 2H), 7.58–7.66 (m, 2H), 7.42-7.54 (m, 3H), 4.08 (s, 2H), 1.58 (s, 2H), 1.39 (s, 9H).

先行文献


利用例
TCI反応実例:パラジウム触媒によるDABSOとNFSIを用いたアリールブロミドのワンポットフッ化スルホニル化

パラジウム触媒によるDABSOとNFSIを用いたアリールブロミドのワンポットフッ化スルホニル化

使用した化学品

実施手順

窒素気流下,4-ブロモビフェニル (1.17 g, 5.00 mmol)とDABSO (721 mg, 3.00 mmol),PdCl2(Amphos)2 (177 mg, 0.25 mmol)の脱水イソプロピルアルコール (20 mL)溶液に,トリエチルアミン (2.1 mL, 15 mmol)を室温で加えた。溶液を75 °Cで 23時間撹拌後,室温に放冷した。これにNFSI (2.36 g, 7.5 mmol)を加え,室温にて3時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し,残渣に酢酸エチル (20 mL)に溶解し,不溶物をセライトろ過にて濾別後,酢酸エチル (20 mL)で洗いこんだ。ろ液を分液漏斗中で飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液 (20 mL),飽和食塩水 (20 mL)で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後,減圧濃縮した。粗成生物を中圧分取クロマトグラフィー (シリカゲル,酢酸エチル:ヘキサン = 98:2 - 95:5)で精製すると,化合物1 (928 mg,収率79%)が白色結晶として得られた。

実施者コメント

反応溶液はTLC (ヘキサン:酢酸エチル = 9:1, Rf = 0.57)とUPLC-MSでモニタリングした。

分析データ

化合物 1

1H NMR (400 MHz, CDCl3); δ 8.12–8.04 (m, 2H), 7.86–7.80 (m, 2H), 7.67–7.58 (m, 2H), 7.44-7.55 (m, 3H).

先行文献


利用例
DABSOをSO2源とするアリールボロン酸からの直接的スルホン誘導体合成

文献


利用例
DABSOを用いた直接的スルホンアミド誘導体合成

文献


利用例
DABSOとTBATを用いた直接的スルホン合成

文献


PubMed Literature


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